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科研成果

一种表征纳米级厚度的范德华晶体光学各向异性的方法

专利名称:

一种表征纳米级厚度的范德华晶体光学各向异性的方法

英文名称:

专利类别:

发明

申请号:

CN201710956650.7

申请日期:

2017-10-13

授权日期:

2020-04-21

专利号:

ZL201710956650.7

第一发明人:

戴庆

其它发明人:

胡德波; 杨晓霞; 李驰; 刘瑞娜; 胡海; 刘梦昆

国外申请日期:

国外申请方式:

专利授权日期:

2020-04-21

缴费情况:

实施情况:

专利证书号:

专利摘要:

其它备注: