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科研成果

带有氧化物掩模的局域微缩光刻膜

专利名称:

带有氧化物掩模的局域微缩光刻膜

英文名称:

Structure of Micro-focused Flms with Oxide Mask for Lithography

专利类别:

发明专利

申请号:

200710065294.6

申请日期:

2007-04-10

授权日期:

专利号:

第一发明人:

刘前

其它发明人:

曹四海郭传飞李晓军

国外申请日期:

国外申请方式:

专利授权日期:

缴费情况:

实施情况:

专利证书号:

专利摘要:

其它备注: