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科研成果

一种直接X射线探测结构、探测器及探测结构制作方法

专利名称: 一种直接X射线探测结构、探测器及探测结构制作方法
英文名称:
专利类别: 发明
申请号: CN201710972261.3
申请日期: 2017-10-18 00:00:00
授权日期: 2019-06-14 00:00:00
专利号: ZL201710972261.3
第一发明人: 戴庆
其它发明人: 李振军; 白冰; 李驰; 陈科; 周圣涵
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期: 2019-06-14 00:00:00
缴费情况:
实施情况:
专利证书号:
专利摘要:
其它备注:
   

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