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科研成果

高质量超薄六方NiPS3纳米片及其大面积制备方法

专利名称: 高质量超薄六方NiPS3纳米片及其大面积制备方法
英文名称:
专利类别: 发明
申请号: CN201710427138.3
申请日期: 2017-06-08 00:00:00
授权日期: 2019-01-25 00:00:00
专利号: ZL201710427138.3
第一发明人: 何军
其它发明人: 王枫梅
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期: 2019-01-25 00:00:00
缴费情况:
实施情况:
专利证书号:
专利摘要:
其它备注:
   

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